Het Doel van het Gr1gr2 Titanium, Zuivere Titaniumschijf het Sputteren Doelhoogte - dichtheid

hoog - van de het titaniumschijf van het kwaliteits het zuivere titanium Gr1 Gr2 sputterende doel

Het doelmateriaal is het doelmateriaal door hoge snelheid geladen deeltjes wordt gebombardeerd dat. Er zijn metalen, legeringen, oxyden, vervangen enz. verschillende doelmaterialen (zoals aluminium, koper, roestvrij staal, titanium, nikkeldoelstellingen, enz.), kunt u verschillende filmsystemen (zoals super-harde, slijtvaste, anticorrosieve legeringsfilm, enz.) krijgen.

(1) metaaldoelstellingen: nikkeldoel, Ni, titaniumdoel, Ti, zinkdoel, Zn, chromiumdoel, Cr, magnesiumdoel, Mg, niobium doel, Nb, tindoel, Sn, aluminiumdoel, Al, indiumdoel, binnen, ijzerdoel, Fe, het doel van het zirconiumaluminium, ZrAl, het doel van het titaniumaluminium, TiAl, zirconiumdoel, Zr, het doel van het aluminiumsilicium, AlSi, siliciumdoel, Si, Cu van het koperdoel, tantaliumdoel T, a, germaniumdoel, Duitsland, Zilveren doel, Ag, kobaltdoel, Co, gouden doel, Au, gadolinium doel, GD, lanthaandoel, La, yttriumdoel, Y, ceriumdoel, Ce, wolframdoel, w, roestvrij staaldoel, nikkel-chromium doel, NiCr, hafnium Doel, HF, molybdeendoel, Mo, ijzer-nikkel doel, FeNi, wolframdoel, W, enz.

(2) ceramische doelstellingen: ITO-doel, magnesiumoxidedoel, ijzeroxidedoel, het doel van het siliciumnitride, het doel van het siliciumcarbide, het doel van het titaniumnitride, het doel van het chromiumoxyde, zinkoxidedoel, het doel van het zinksulfide, het doel van het siliciumdioxyde, één doel van het Siliciumoxyde, het doel van het ceriumoxyde, het doel van het zirconiumdioxyde, niobium pentoxidedoel, titaandioxidedoel, het doel van het zirconiumdioxyde, hafnium dioxydedoel, het doel van titaniumdiboride, het doel van zirconiumdiboride, het doel van het wolframtrioxide, het doel van het Aluminiumoxyde, tantaliumoxyde, niobium pentoxidedoel, het doel van het magnesiumfluoride, het doel van het yttriumfluoride, het doel van het zinkselenide, het doel van het aluminiumnitride, het doel van het siliciumnitride, het doel van het boriumnitride, het doel van het titaniumnitride, Silicium carbidedoel, lithiumniobate doel, praseodymium titanaatdoel, het doel van het bariumtitanaat, het doel van het lanthaantitanaat, het doel van het nikkeloxyde, sputterend doel, enz.

2. De belangrijkste prestatie-eisen van het doel

(1) zuiverheid

De zuiverheid is één van de belangrijkste prestatie-indicators van het doel, omdat de zuiverheid van het doel een grote invloed op de prestaties van de film heeft. Nochtans, in praktische toepassingen, zijn de zuiverheidsvereisten van de doelmaterialen ook verschillend. Bijvoorbeeld, met de snelle ontwikkeling van de micro-elektronicaindustrie, is de grootte van siliciumwafeltjes van 6 „, 8“ aan 12“ gegroeid, en de bedradingsbreedte is verminderd van 0.5um aan 0.25um, kan 0.18um of zelfs 0.13um, de vorige doelzuiverheid van 99,995% aan de technische vereisten van 0.35umIC voldoen, en de voorbereiding van 0.18um-lijnen vereist 99,999% of zelfs 99.9999% voor de zuiverheid van het doel.

(2) onzuiverheidsinhoud

De onzuiverheden in het de doelvaste lichaam en zuurstof en de waterdamp in de poriën zijn de belangrijkste bronnen van verontreiniging voor de gedeponeerde film. De verschillende doelstellingen hebben verschillende eisen ten aanzien van verschillende onzuiverheidsinhoud. Bijvoorbeeld, hebben worden gebruikt de zuivere die aluminium en van de aluminiumlegering doelstellingen in de halfgeleiderindustrie speciale eisen ten aanzien van alkali-metal inhoud en radioactieve elementeninhoud.

(3) dichtheid

om de poriën in de vaste lichamen van het doel te verminderen en de prestaties van de gesputterde film te verbeteren, wordt het doel gewoonlijk vereist om een hogere dichtheid te hebben. De dichtheid van het doel niet alleen beïnvloedt het het sputteren tarief, maar ook beïnvloedt de elektrische en optische eigenschappen van de film. Hoger de doeldichtheid, beter de filmprestaties. Bovendien staat het verhogen van de dichtheid en de sterkte van het doel het doel toe om de thermische spanning tijdens het sputteren beter te weerstaan. De dichtheid is ook één van de key performance indicator van het doel.

(4) korrelgrootte en van de korrelgrootte distributie

Het doelmateriaal is gewoonlijk polycrystalline, en de korrelgrootte kan op de orde van microns aan millimeter zijn. Voor hetzelfde doelmateriaal, is het het sputteren tarief van het doel met fijne korrels sneller dan dat van het doel met ruwe korrels; de dikte van de film door het doel met een klein verschil in korrelgrootte wordt gedeponeerd (eenvormige distributie die) te sputteren is meer eenvormig.

3. Materiaal

TA0, TA1, TA2, TA9, TA10, ZR2, ZR0, GR5, GR2, GR1, TC11, TC6, TC4, TC3, TC2, TC1

4. Doel

Het wordt wijd gebruikt in decoratieve deklagen, slijtvaste deklagen, CDs en VCDs in de elektronische industrie, evenals diverse magnetische schijfdeklagen.

Wolfram-titanium (w-Ti) films en wolfram-titanium (w-Ti) - de gebaseerde legeringsfilms zijn legeringsfilms op hoge temperatuur met een reeks onvervangbare uitstekende eigenschappen. Het wolfram heeft eigenschappen zoals hoog smeltpunt, coëfficiënt met hoge weerstand en lage van thermische uitbreiding. W/Ti-de legering heeft lage weerstandscoëfficiënt, goede thermische stabiliteit en oxydatieweerstand. Zoals diverse apparaten vereis metaal telegraferend dat spelen een geleidende rol, zoals Al, Cu, en Ag wijd zijn gebruikt en onderzocht. Nochtans, is het bedradingsmetaal zelf gemakkelijk geoxydeerd, reageert met het omringende milieu, en heeft slechte adhesie aan de diëlektrische laag. Het is gemakkelijk om in de substraatmaterialen van apparaten zoals Si en SiO2 te verspreiden, en het zal metaal en Si bij een lagere temperatuur vormen. De samenstellingen, die als onzuiverheden dienst doen, degraderen zeer de prestaties van het apparaat. De legering w-Ti is gemakkelijk om als barrière worden gebruikt van de bedradingsverspreiding toe te schrijven aan stabiele thermomechanische eigenschappen, lage elektronenmobiliteit, hoge corrosieweerstand en chemische stabiliteit, vooral geschikt voor gebruik in hoog huidige en op hoge temperatuur milieu's.

2.Image

3.Factory & Certificaat

4.Package & Levering

pakket:

Verpak het Ti-doelmateriaal met parelkatoen en zet het in een houten doos. Onze redelijke verpakkingsmethode kan de doelmaterialen van het in botsing komen met elkaar tijdens vervoer vermijden, en kan het effect ook verhinderen van externe goederen op het product, en ervoor zorgen dat het product na leveringsintegriteit wordt geleverd.

-1. De verzegelde verpakking, dan gezet in het Karton cas of standaard standaardtriplexgeval.

-2.Using exclusief douanekarton met klantenembleem, elke individuele verpakking, om kopers directe verkoop te helpen.

-Keur klantenvereiste goed

Zorg ervoor dat elk pakket voor you.ensure op maat gemaakt is wanneer u goederen geen beschadigd krijgt.