Hoogzuiver titanium sputterdoel ASTM B348

Hoogzuiver titanium sputterdoel ASTM B348

Dit hoogzuivere titanium sputterdoel wordt geproduceerd uit titanium van graad 1, graad 2, graad 5, graad 7 en graad 12 met een titaniumgehalte van minimaal 99,5% en een onzuiverheidsgehalte van minder dan 0,04%. Doelen worden gesmeed en CNC-gefreesd volgens ASTM B348 en ASTM B381 met een dichtheid van 4,51 of 4,50 g/cm3, en legeringsdoelen zoals Ti-Al, Ti-Cr en Ti-Zr, evenals chroom, zirkonium, koper en wolfraam kunnen ook worden geleverd.

Technische Specificaties

Beschikbare Doelvormen en -maten

Toepassingen & Titanium Voordelen

Titanium sputterdoelen worden gebruikt in de halfgeleider scheiding, filmcoating, opslag elektrode coating, sputtercoating, oppervlaktecoating en de glascoatingindustrie. Zuiverheid heeft een sterke invloed op de prestaties van de gesputterde film, omdat hogere zuiverheid een betere corrosiebestendigheid en betere elektrische en optische eigenschappen geeft. Onzuiverheden in het vaste doel, samen met zuurstof en waterdamp die in poriën zijn opgesloten, zijn de belangrijkste bronnen van filmvervuiling, en de dichtheid beïnvloedt zowel de sputteringsnelheid als de elektrische en optische kwaliteit van de film. Een fijne en uniform verdeelde korrelstructuur sputtert sneller en produceert een gelijkmatigere filmdikte.

Kwaliteit, Maatwerk & Aanvraag

Doelen worden gesmeed en CNC-gefreesd onder ISO9001 kwaliteitscontrole en verpakt in vacuüm plastic zakken met schuim en parelkatoen in een ontsmette multiplex kist om internationale transportnormen te voldoen. Vorm, maat, graad en hoeveelheid kunnen worden aangepast, de maandelijkse capaciteit bereikt 5000 stuks en de levering duurt normaal gesproken 15-20 dagen. Stuur alstublieft uw doelvorm, afmetingen, zuiverheidseis en hoeveelheid zodat we een offerte kunnen opstellen.